荷蘭飛納電鏡源自 FEI,出生于荷蘭 “發(fā)明之城” 埃因霍溫,以 “任何人都可用的電鏡” 聞名于世,現(xiàn)已成為臺(tái)式掃描電鏡第一品牌。讓您的掃描電鏡測(cè)試變得簡(jiǎn)單高效是我們一直以來(lái)的目標(biāo)。
應(yīng)用領(lǐng)域廣泛
飛納目前在中國(guó)擁有 1000 多名用戶,包括:清華、北大等幾百家高校;中科院等各類研究院所;海關(guān)、公安局等政府機(jī)構(gòu);以及新能源、生命科學(xué)、半導(dǎo)體等企業(yè)單位。研究領(lǐng)域涉及金屬及合金,電池,地質(zhì),考古,高分子,靜電紡絲,陶瓷,復(fù)合材料,生物醫(yī)學(xué),微生物等。
飛納電鏡型號(hào)推薦
1. 臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射電鏡能譜一體機(jī) Phenom Pharos
放大倍數(shù):1,000,000 X
分辨率:優(yōu)于 2 nm
燈絲材料:肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍
抽真空時(shí)間:小于 15 秒
探測(cè)器:背散射電子探測(cè)器,二次電子探測(cè)器,能譜探測(cè)器
放大倍數(shù):150,000 X
分辨率:優(yōu)于 8 nm@10kV
燈絲材料:1,500 小時(shí) CeB6 燈絲
抽真空時(shí)間:小于 15 秒
探測(cè)器:背散射電子探測(cè)器(選配二次電子),能譜探測(cè)器
放大倍數(shù):200,000 X
分辨率:優(yōu)于 10 nm
燈絲材料:1,500 小時(shí) CeB6 燈絲
抽真空時(shí)間:小于 30 秒
探測(cè)器:背散射電子探測(cè)器(選配二次電子和 EDS 能譜儀)
樣品室尺寸:100mm x 100mm
全自動(dòng)解決方案
1. ParticleX 全自動(dòng)顆粒分析系統(tǒng)
主要用于雜質(zhì)或顆粒物的綜合評(píng)估,可以自動(dòng)獲取大量顆粒的微觀形貌 和成分信息,具體包括:
· 顆粒粒度分布
· 顆粒形貌分析
· 雜質(zhì)成分檢測(cè)
· 高分辨率成像
ParticleX 以掃描電鏡和能譜儀為基礎(chǔ),結(jié)合自動(dòng)控制系統(tǒng)以及強(qiáng)大的數(shù)據(jù)庫(kù) 系統(tǒng),可以全自動(dòng)對(duì)雜質(zhì)顆粒進(jìn)行快速識(shí)別、分析和分類統(tǒng)計(jì),為客戶的研發(fā)以 及生產(chǎn)提供快速、準(zhǔn)確和可靠的定量數(shù)據(jù)支持。
2. DiatomScope 全自動(dòng)硅藻檢驗(yàn)系統(tǒng)
DiatomScopeTM 系統(tǒng)為法醫(yī)硅藻檢驗(yàn)提供了目前最可靠最高效的解決方案,能自動(dòng)完成每批各個(gè)樣品的高質(zhì)量的圖像捕捉,實(shí)現(xiàn) 地毯式拼圖(可設(shè)置夜間自動(dòng)運(yùn)行);用戶從獲取的圖片中逐個(gè)查找、標(biāo)記硅藻位置(允許多用戶同時(shí)標(biāo)記來(lái)提高效率);DiatomScopeTM 對(duì)所有標(biāo)記的位置自動(dòng)高倍數(shù)取圖;最后,系統(tǒng)將自動(dòng)生成包含所有被標(biāo)記硅藻的高質(zhì)量圖片的報(bào)告。
放大倍數(shù):150,000 X
分辨率:優(yōu)于 8 nm@10kV
燈絲材料:1,500 小時(shí) CeB6 燈絲
抽真空時(shí)間:小于 15 秒
探測(cè)器:背散射電子探測(cè)器(選配二次電子)
5. 經(jīng)濟(jì)型標(biāo)準(zhǔn)版 Phenom Pure
放大倍數(shù):65,000 X
分辨率:優(yōu)于 25 nm
燈絲材料:1,500 小時(shí) CeB6 燈絲
抽真空時(shí)間:小于 15 秒
探測(cè)器:背散射電子探測(cè)器(選配二次電子)
飛納臺(tái)式掃描電鏡設(shè)計(jì)緊湊,不占空間。無(wú)需額外安裝防震臺(tái)和磁屏蔽,對(duì)安裝環(huán)境沒(méi)有特殊要求,且不需要專人維護(hù)。
飛納電鏡抽真空最快只需 15s,成像只需 1 分鐘。操作簡(jiǎn)單意味著檢測(cè)效率的提升,也意味著能為您節(jié)約大量的時(shí)間成本。與此同時(shí),飛納電鏡還兼具 EDS,顆粒統(tǒng)計(jì)等附加功能,是快速篩選及分析樣品的最佳選擇。