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不同應(yīng)用場景下的飛納電鏡選型指南

瀏覽次數(shù):169 發(fā)布日期:2025-1-9  來源:本站 僅供參考,謝絕轉(zhuǎn)載,否則責(zé)任自負(fù)

2025飛納電鏡選型

飛納 (Phenom) 源自 FEI,誕生于荷蘭 “發(fā)明之城” 埃因霍溫,以 “任何人都可用的電鏡” 聞名于世。讓您的掃描電鏡測試變得簡單高效是我們一直以來的目標(biāo)。


飛納目前在中國擁有 2000 多名用戶,包括數(shù)百家高校;中科院等各類研究院所;政府機構(gòu);以及新能源、生命科學(xué)等企業(yè)單位。研究領(lǐng)域涉及金屬及合金,電池,地質(zhì),考古,高分子,靜電紡絲,陶瓷,復(fù)合材料,生物醫(yī)學(xué),微生物等。

制樣簡單 無需噴金即可觀察不導(dǎo)電樣品

飛納臺式掃描電鏡
相較傳統(tǒng)電鏡,成像速度提升 10 倍:
獨家采用,平均 3 年以上更換燈絲
不挑安裝環(huán)境,,放置高樓層也無需擔(dān)心
原廠集成能譜 EDS,
讓精密儀器無后顧之憂,
最“老”的電鏡,也是最“新”的電鏡!
自動化掃描電鏡,讓測試效率翻倍

01. 新品速遞
2024 年,飛納電鏡推出一系列新技術(shù)-- ChemiSEM 彩色成像軟件,ChemiPhase 物相分析軟件和 Phenom MAPS 大面積能譜拼圖軟件等最新技術(shù),不僅打破大家對于掃描電鏡圖片是黑白的傳統(tǒng)認(rèn)知,而且將掃描電鏡成像分析帶入一個全新的高度。

ChemiSEM 技術(shù)
EDS 能譜儀在電鏡工作時始終在后臺收集成分?jǐn)?shù)據(jù),利用算法同時處理 BSE 和 EDS 信號,實時顯示樣品的形態(tài)和定量元素分布結(jié)果。簡化對金屬、陶瓷、電池、涂層和軟材料等多種材料的復(fù)雜分析。
 

飛納電鏡ChemiSEM 彩色成像技術(shù)

ChemiPhase 物相分析
統(tǒng)計分析 X 射線面掃成像數(shù)據(jù),并按照成分組成的特異性進(jìn)行相的劃分,提取出特征相分布。同時具有相歸類,計算相比例等功能,非常適用于合金、陶瓷、礦物分析等領(lǐng)域的測試分析。
 

Phenom MAPS 系統(tǒng)
Phenom MAPS 提供的是一個涵蓋所有樣品信息的數(shù)碼存檔,從全面(宏觀)到具體(微觀)無所不包,徹底變革了傳統(tǒng)掃描電鏡的分析與數(shù)據(jù)存儲模式。并且,多圖層數(shù)據(jù)可以包含能譜。
 

飛納電鏡phenom maps


此外,飛納電鏡還為大家?guī)砑捎谂_式掃描電鏡的 AFM(原子力顯微鏡)方案 —— Phenom AFM-SEM 原子力掃描電鏡一體機,實現(xiàn)在同一系統(tǒng)中對樣品進(jìn)行多模態(tài)(SEM 及 AFM 形貌、元素、機械、電學(xué)、磁學(xué))的關(guān)聯(lián)分析。

 

Phenom AFM-SEM 在樣品分析和先進(jìn)的 3D 相關(guān)成像方面為用戶提供了前所未有的可能性,具有無與倫比的圖像對齊精度。多功能性證明了其在材料科學(xué)、納米技術(shù)、半導(dǎo)體、太陽能電池開發(fā)、生命科學(xué)和其他研究領(lǐng)域以及工業(yè)應(yīng)用等各個領(lǐng)域的適用性。

02. 電鏡選型
系列一 | 臺式場發(fā)射掃描電鏡
飛納臺式場發(fā)射掃描電鏡,完全防震,在臺式機身上獲得接近大型場發(fā)射的性能。優(yōu)秀的低電壓成像能力,可減輕電子束對樣品的損傷和穿透,最大程度還原樣品的真實形貌。延續(xù)電鏡能譜一體化設(shè)計,升級的快速面掃可以即時顯示所選元素的分布情況,實時能譜分析功能大幅提升了檢測效率。

產(chǎn)品特點

  • 肖特基場發(fā)射電子槍
  • 分辨率最高的臺式電鏡
  • 可選 STEM 模式:BF、DF、HAADF 像
  • 卓越的低電壓成像
  • 電鏡能譜一體化設(shè)計
  • 不受震動、磁場等環(huán)境因素干擾

型號推薦
Pharos STEM 掃描透射電鏡

STEM掃描透射電鏡

  • 分辨率:優(yōu)于 1nm
  • 成像模式:BF、DF、HAADF


Pharos G2 臺式場發(fā)射掃描電鏡

Pharos G2 臺式場發(fā)射掃描電鏡

  • 分辨率:優(yōu)于 1.5 nm
  • 放大倍數(shù):2,000,000 X


Nano G2 臺式場發(fā)射掃描電鏡

Nano G2 臺式場發(fā)射掃描電鏡

  • 分辨率:優(yōu)于 2.5 nm
  • 放大倍數(shù):1,000,000 X

系列二 | 六硼化鈰燈絲(CeB6)掃描電鏡
全新一代六硼化鈰(CeB6)晶體燈絲掃描電鏡,臺式設(shè)計,完全防震。操作便捷,適用不同經(jīng)驗級別的用戶,培訓(xùn) 30 分鐘即可上手操作。支持拓展各種特色功能。


產(chǎn)品特點

  • 獨家采用 CeB6 燈絲,高分辨成像,使用時長不低于 1500h
  • 成像最快的掃描電鏡:15s 抽真空,30s 成像
  • 電鏡能譜一體化設(shè)計
  • 不受震動、磁場等環(huán)境因素干擾

型號推薦
Phenom XL 大樣品室卓越版

Phenom XL 大樣品室臺式掃描電子顯微鏡

  • AI 智能化全自動掃描電鏡:Maps 地圖式多模態(tài)、多維度自動掃描拼圖及關(guān)聯(lián)系統(tǒng)
  • 100x100mm 大樣品倉室:36 個樣品位、超越落地式電鏡的樣品可視區(qū)域(100*100 mm);可選配原位拉伸/壓縮樣品臺
  • 完全集成能譜 EDS(選配):原廠集成能譜探測器,實時能譜面掃,物相分析,大面積能譜拼圖
  • 開放編程接口的自動化掃描電鏡:支持自定義腳本編程,自定義專屬您的SEM工作流,可自定義自動化拍照、自動形成數(shù)據(jù)報告等

高性價比系列推薦
Phenom ProX

飛納臺式掃描電鏡能譜一體機

  • 放大倍數(shù):350,000 X
  • 分辨率:優(yōu)于 6 nm
  • 探測器:BSD,SED(可選),EDS

Phenom Pro

phenom pro 臺式掃描電子顯微鏡

  • 放大倍數(shù):350,000 X
  • 分辨率:優(yōu)于 6 nm
  • 探測器:BSD,SED(可選)

Phenom Pure

phenom pure 臺式掃描電鏡

  • 放大倍數(shù):175,000 X
  • 分辨率:優(yōu)于 10 nm
  • 探測器:BSD,SED(可選)


系列三 | ParticleX 全自動掃描電鏡
ParticleX 以掃描電鏡和能譜儀為基礎(chǔ),結(jié)合自動控制系統(tǒng)以及強大的數(shù)據(jù)庫系統(tǒng),可以全自動對雜質(zhì)顆粒進(jìn)行快速識別、分析和分類統(tǒng)計,為客戶的研發(fā)以及生產(chǎn)提供快速、準(zhǔn)確和可靠的定量數(shù)據(jù)支持。

型號推薦
ParticleX Battery 全自動鋰電清潔度分析

  • Cu、Zn 異物及鐵磁性異物檢測

ParticleX TC 全自動汽車清潔度檢測

  • 符合 ISO16232,VDA19 標(biāo)準(zhǔn)

ParticleX Steel全自動鋼鐵夾雜物分析

  • 一體化鋼中非金屬夾雜物分析
ParticleX 全自動顆粒統(tǒng)計分析
  • 顆粒分析及過程控制的工業(yè)級解決方案

系列四 | 刑偵司法鑒定專用掃描電鏡
Phenom GSR 槍擊殘留物分析

刑偵司法鑒定專用掃描電鏡Phenom GSR 槍擊殘留物分析

在槍支犯罪事件中,槍擊殘留物(GSR)的分析發(fā)揮著重要的作用。GSR 分析技術(shù)首先基于掃描電子顯微鏡(SEM)的背散射成像,用來掃描樣品和發(fā)現(xiàn) “可疑” 的 GSR 顆粒。一旦發(fā)現(xiàn)可疑的顆粒,使用能譜(EDS)識別該顆粒的元素。最常見的搜索元素為 Pb,Sb 和 Ba。無鉛底火的檢測,例如 Ti 和 Zn 也可作為搜索條件進(jìn)行搜索。

Diatom AI 自動檢測系統(tǒng)(電鏡)

Diatom AI 自動檢測系統(tǒng)(電鏡)

DiatomAI™ 利用人工智能的技術(shù),賦能法醫(yī)硅藻檢驗系統(tǒng),配合 DiatomScope™ ,實現(xiàn)了掃描和檢測的全自動化。它是目前市面上最可靠、最高效、自動化程度最高的硅藻檢測解決方案,幫助法醫(yī)在檢測過程中實現(xiàn)硅藻的全自動檢測,識別過程全程無需人工參與。大大縮短了檢測時間,提升工作效率。

03. SEM 樣品制備

SEMPREP SMART 配備了高能量和可選的低能量氬離子槍。用于掃描電子顯微鏡(SEM)和電子背散射衍射(EBSD)樣品的最終加工和清潔。離子加工可以改進(jìn)和清潔機械拋光的 SEM 樣品,并為 EBSD 分析制備無損表面。該設(shè)備還適用于快速截面加工。為您制備高精度和高質(zhì)量的樣品,例如在半導(dǎo)體測試或鋰離子電池隔膜的截面檢查中均能實現(xiàn)出色的效果。

離子研磨儀

產(chǎn)品特點

  • 氬離子束無應(yīng)力處理樣品
  • 定位精準(zhǔn):可實現(xiàn)± 1微米
  • 離子槍能量最高:0-16KV
  • 超大樣品腔室:可容納直徑 50mm 樣品
  • 獨家制冷設(shè)計:液氮 LN2 制冷
  • 可選配真空轉(zhuǎn)移功能

應(yīng)用案例|電子器件失效分析
在對焊接部位的焊接情況進(jìn)行分析時,需要觀測該部位剖面的合金相分布情況,此時需要用到截面切削的制樣設(shè)備--離子研磨儀,進(jìn)行無應(yīng)力樣品切削制備后,使用飛納電鏡進(jìn)一步分析焊接情況。

1,000X (Mix模式,離子研磨后)3,000X (Mix 模式,離子研磨后)

1,000X (Mix模式,離子研磨后)
3,000X (Mix 模式,離子研磨后)

進(jìn)一步結(jié)合 EDS 能譜面掃分析可知:銀-錫膏和銅面結(jié)合,界面有銅-錫為主合金化晶粒生長,銅引腳有鍍鎳層,并在內(nèi)部發(fā)現(xiàn)有大量的鐵富集相夾雜,近銅界面發(fā)現(xiàn)有氣孔存在。
 

焊錫截面掃描電鏡 EDS 能譜面掃結(jié)果
焊錫截面掃描電鏡 EDS 能譜面掃結(jié)果

使用 SEMPREP SMART 處理后的掃描電鏡( SEM)圖:

氧化鋁陶瓷材料掃描電鏡圖
氧化鋁陶瓷材料掃描電鏡圖

半導(dǎo)體失效分析(掃描電鏡圖)
半導(dǎo)體失效分析(掃描電鏡圖)

鋰電池正極極片掃描電鏡圖
鋰電池正極極片掃描電鏡圖

來源:復(fù)納科學(xué)儀器(上海)有限公司
聯(lián)系電話:400-857-8882
E-mail:cici.yang@phenom-china.com

標(biāo)簽: 掃描電鏡
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